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使用熔融法制样进行XRF分析,影响X荧光光谱分析测量结果的因素
发布时间:2020-04-14 点击:1482

在使用X射线荧光法测量,熔融法制样是目前来说一种比较广泛的制样方法。使用测量后,有些因素是会影响到样品的测量结果,除去仪器本身的误差外,在制样过程中,有些环节对测量的结果会产生一定的影响,那如何消除这些误差因素是我们在常规制样时所需要考虑的了。

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(1)首先一个就是在熔融制样时,样品表面产生的烧损,这些肯定是会对样品的检测产生影响。

(2)另外就是样品的冷却速度,冷却需要慢慢的,如果冷却速度太快,冷却的越快,对结果的影响就会越大。

(3)样品的预氧化对于准确度(对S和AS)的影响也很大,还有试样的组成情况对全铁影响也不小。

(4)当前主流XRF综合稳定度均优于0.1%。因此XRF分析误差主要由样品所引起,更确切地说,是由于制样产生的样品高度误差以及样品定位误差所引起。有关实验表明,采用铂/金坩埚铸型的自动熔样机制备的玻璃熔片,表面曲率的变化导致的样品定位误差可高达100微米。有些粉末压片后分析表面可能因膨胀而出现弯曲(例如含高硅的样品),富含碳酸钙的样品有时也可能发生弯曲。近来,一些XRF主力厂商纷纷将其新品由上照射方式改为下照射方式,一是简化XRF结构,更重要的考虑则是减小样品定位误差。

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